감광재

반도체 및 디스플레이를 제조하기 위해서는 Photo Lithography 기술을 이용하여 설계된 회로를 기판에 전사하여야 하는데, Photo Lithography 기술에 있어 가장 핵심적인 물질이 감광재(Photo Active Compound, PAC) 입니다.

감광재는 LCD, OLED, 반도체 등의 기판 및 박막 위에 도포되어 감광막을 형성시키는 재료로 노광기에서 나오는 파장에 민감하게 반응하기에, 반도체 및 디스플레이 생산 공정에서 Pattern 형상화를 위한 Photoresist 제품에 사용됩니다.

다이토키스코㈜는 2005년 디스플레이 및 반도체 제조공정에 사용되는 Photoresist의 핵심 원료인 감광재의 제조, 판매를 위해 ㈜경인양행과 일본 DAITOCHEMIX Corp. 이 합작 설립한 회사입니다. 다이토키스코㈜는 세계 3대 PAC Maker 중에 하나이며 고객이 요구하는 특성을 맞추어 지속적으로 신규 PAC을 개발하고 전세계 고객에게 공급해 오고 있습니다.

생산품목 어플리케이션
3-PAC, DNQ ester with Benzophenone
반도체용 Photoresist
4-PAC, DNQ ester with Benzophenone
TFT (LCD, OLED )용 Photoresist
i-Line PAC, DNQ ester with Novolac Organic Insulators 용 Photoresists
  LED 용 Photoresists